标准体系，发现其中只有五种体系，存在“放置变好”的实验现象，另外有八种体系是“放置变差”，还有四种体系是“放置不变”。
    他试着给“放置变好”、“放置变差”以及“放置不变”的体系分别归了归类，然后发现：
    “放置变好”、“放置变差”的体系，大多是有效层旋涂后，没有经过退火的体系，“放置不变”的体系，大多是经过退火处理的体系。
    退火这项实验操作，主要影响的是有效层旋涂过后残存的溶剂含量，如果不退火的话，沸点100多摄氏度的氯苯，以及沸点更高，可达200摄氏度以上的溶剂添加剂DIO等肯定会有所残留。
    因此，许秋认为“放置变好”、“放置变差”、“放置不变”这些实验现象，背后可以归因于：
    在蒸镀舱的真空环境下，器件内残存溶剂挥发对有效层形貌的影响。
    对于氯苯、DIO这些溶剂来说，它们在常温常压的条件下不容易挥发。
    而在常温低压的条件下，就会逐渐从器件有效层中“跑出来”，扩散到外界的真空氛围中。
    溶剂挥发的过程，是需要一定时间的。
    正常蒸镀的过程持续时间只有2小时左右，不足以让有效层内部的残留
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